എച്ചിംഗ് ടെക്നോളജി
സാമ്പിൾ സിസ്റ്റത്തെ തുല്യമായി ചുറ്റുന്ന പ്രത്യേകമായി രൂപകൽപ്പന ചെയ്ത കാന്തികക്ഷേത്രം.
എച്ചിംഗിന്റെ മികച്ച ഏകതാനത
നല്ല ഡിഫ്രാക്ഷൻ
ട്യൂൺ ചെയ്യാവുന്ന എച്ചിംഗ് ശക്തി
കൊത്തിയെടുത്ത മൊഡ്യൂളുകൾ അറ്റകുറ്റപ്പണി രഹിതമാണ്.
ആർക്ക് അയോൺ പ്ലേറ്റിംഗ് (AIP)
ഉയർന്ന അയോണൈസേഷൻ നിരക്ക്
ഉയർന്ന സാന്ദ്രത
ഉയർന്ന നിക്ഷേപ നിരക്ക്
നിരവധി സൂക്ഷ്മകണികകൾ
പരുക്കൻ പ്രതലം
G4 ഇന്റഗ്രേറ്റഡ് കാഥോഡ്
ഉയർന്ന അയോണൈസേഷൻ നിരക്ക്
ഉയർന്ന സാന്ദ്രത
ഉയർന്ന നിക്ഷേപ നിരക്ക്
മിനുസമാർന്ന പ്രതലം, സൂക്ഷ്മകണങ്ങളൊന്നുമില്ല.
കുറഞ്ഞ അവശിഷ്ട സമ്മർദ്ദം
മാഗ്നെട്രോൺ സ്പട്ടറിംഗ് (എംഎസ്)
മിനുസമാർന്ന പ്രതലം, സൂക്ഷ്മകണങ്ങളൊന്നുമില്ല.
കുറഞ്ഞ അവശിഷ്ട സമ്മർദ്ദം
കുറഞ്ഞ നിക്ഷേപ നിരക്ക്
കുറഞ്ഞ അയോണൈസേഷൻ നിരക്ക്
PECVD കോട്ടിംഗ് സാങ്കേതികവിദ്യ
പ്ലാസ്മ എൻഹാൻസ്ഡ് കെമിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ (PECVD) എന്നത് വളരെ മിനുസമാർന്നതും ഒട്ടിപ്പിടിക്കുന്നതുമായ അമോർഫസ് ഡയമണ്ട് ഹാർഡ് അലോയ് കോട്ടിംഗുകൾ ഉയർന്ന വാക്വം പരിതസ്ഥിതിയിൽ നിക്ഷേപിക്കുന്ന ഒരു പ്രക്രിയയാണ്. PVD പ്രക്രിയകളുമായി താരതമ്യപ്പെടുത്തുമ്പോൾ, PECVD പ്രക്രിയകൾക്ക് ആഴത്തിലുള്ള പ്ലേറ്റിംഗ് പവർ സപ്ലൈകൾ ഉപയോഗിക്കുന്നു, കാഥോഡ് ടാർഗെറ്റുകൾ ആവശ്യമില്ല, കൂടാതെ വർക്ക്പീസ് ഫർണസ് ചേമ്പറിൽ കറങ്ങേണ്ടതില്ല. ഈ പ്രക്രിയ വൃത്തിയുള്ളതും മലിനീകരണ രഹിതവും വിശ്വസനീയവും മൾട്ടിഫങ്ഷണൽ കോട്ടിംഗ് പ്രക്രിയയുമാണ്.
● ലളിതമായ ഹാർഡ്വെയർ, അധിക അയോണൈസേഷൻ സ്രോതസ്സ് ആവശ്യമില്ല.
● അയോണൈസേഷൻ നിരക്ക് വർദ്ധിപ്പിക്കുന്ന സംയുക്ത കാന്തികക്ഷേത്ര രൂപകൽപ്പന
● ഉയർന്ന നിക്ഷേപ വേഗത> 1μm/h
● കുറഞ്ഞ നിക്ഷേപ താപനില ＜250℃
● മിനുസമാർന്ന പ്രതലം, വലിയ സൂക്ഷ്മകണിക മലിനീകരണമില്ല.
● പ്ലാസ്മ ക്ലീനിംഗ് ഉൽപ്പന്നങ്ങൾ, അറ്റകുറ്റപ്പണി ആവശ്യമില്ല.
സന്തുലിതമല്ലാത്ത അടച്ച കാന്തികക്ഷേത്രത്തിന്റെ സിമുലേഷൻ
ഉയർന്ന സാന്ദ്രതയുള്ള പ്ലാസ്മ
പ്ലാസ്മ ക്ലീനിംഗ് ഉൽപ്പന്നങ്ങൾ
aC:H-ന് വേണ്ടിയുള്ള PECVD
വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധം, ലൂബ്രിക്കേഷൻ, നാശന പ്രതിരോധം, ഭാഗങ്ങളുടെ ഉയർന്ന ബോണ്ടിംഗ് ശക്തി എന്നിവയുടെ ആവശ്യകതകളെ അടിസ്ഥാനമാക്കി, മൾട്ടി-ലെയർ ഘടന, ഗ്രേഡിയന്റ് സംക്രമണം, ഇന്റർഫേസ് കോമ്പോസിറ്റ് എന്നിവയുടെ ആശയത്തെ അടിസ്ഥാനമാക്കിയാണ് ഡിഎൽസി കോട്ടിംഗ് ഘടനാപരമായി രൂപകൽപ്പന ചെയ്തിരിക്കുന്നത്.
DLC കോട്ടിംഗ് ഘടന
കനം 2-4μm (വ്യത്യസ്ത ആവശ്യകതകളെ ആശ്രയിച്ചിരിക്കുന്നു)